Na noite de 14 de abril, Hubei Dinglong Co.Ltd(300054) divulgou o relatório anual de 2021. A empresa alcançou uma receita operacional anual de 2,355 bilhões de yuans, um aumento anual de 29,67%; O lucro líquido atribuível aos acionistas da empresa listada foi 213 milhões de yuans, um aumento anual de 233,50%; O lucro líquido após deduzir lucros e perdas não recorrentes foi de 206 milhões de yuans, um aumento homólogo de 175,62%. De acordo com o relatório anual, é principalmente devido ao crescimento substancial do negócio de almofadas de polimento CMP da empresa no mesmo período do ano passado e ao crescimento constante do negócio de consumíveis gerais de impressão e cópia.
De acordo com a previsão do relatório do primeiro trimestre divulgado pela empresa no mesmo dia, o lucro no primeiro trimestre deste ano deve ser de 65 milhões de yuans a 75 milhões de yuans, um aumento anual de 73% a 99,8%.
O relatório anual mostra que, em 2021, os produtos de almofada de polimento da empresa alcançaram uma receita de vendas de 302 milhões de yuans, um aumento de 284% em relação ao mesmo período do ano anterior, transformando perdas em lucros pela primeira vez. É revelado que a capacidade de produção anual total de almofadas duras de polimento fase I e fase II é aumentada para 300000 peças por ano. Atualmente, a taxa de utilização da capacidade de produção da fase II está subindo; A capacidade auto-construída de 200000 peças de série de almofadas macias e 300000 peças de matérias-primas de almofada dura de polimento fase III fábrica (Qianjiang) está atualmente em processo de decoração interna e instalação de equipamentos. Espera-se concluir a instalação do equipamento no verão de 2022 e entrar na fase de ligação de equipamentos e produção experimental.
O relatório anual também mostra que o desenvolvimento e verificação dos produtos líquidos de polimento da empresa foram rapidamente promovidos, avanços foram feitos em produtos-chave, as matérias-primas principais upstream são controláveis independentemente, a construção de 5000t capacidade de produção anual em Wuhan na fase I foi concluída, aguardando produção em grande escala, e a linha de produção da fase II está em preparação conforme planejado. Entre eles, um produto líquido de polimento no processo de óxido obteve uma ordem pequena, e um produto líquido de polimento no processo de Al passou a verificação do cliente no processo HKMG de nó de tecnologia de 28nm e entrou na fase de aquisição de nível de tonelada.
De acordo com o relatório anual da seção de fluido de limpeza, o fluido de limpeza CMP no processo Cu alcançou um avanço e foi verificado por três clientes principais na China. Outros três clientes entraram na fase de verificação em larga escala, com bons resultados feedback e pequenas encomendas.
A I & D contínua estabeleceu uma base sólida para o desenvolvimento de negócios. O relatório anual também mostra que o investimento em P&D em Hubei Dinglong Co.Ltd(300054) 2021 foi de RMB 284 milhões, representando 12,06% da receita total da empresa naquele ano, um aumento significativo de 52,33% em relação a 2020. De acordo com as estatísticas, a empresa investiu 639 milhões de yuans em P & D nos últimos três anos, representando 12% da receita operacional total da empresa nos últimos três anos.
Ao mesmo tempo com o relatório anual, Hubei Dinglong Co.Ltd(300054) anunciou um novo plano de investimento.A empresa planeja investir 750-1 bilhão de yuans em duas fases para construir um novo projeto em Hubei Xiantao Industrial Park: um projeto anual de expansão da produção de 20000 toneladas de fluido de polimento para o circuito integrado CMP (construído em duas fases), um projeto anual de expansão da produção de 10000 toneladas de fluido de limpeza para o circuito integrado CMP, um projeto anual de industrialização da produção de 1000 toneladas de PSPI para OLED O projeto de industrialização de tinta de material de embalagem OLED com uma produção anual de 600 toneladas, bem como a industrialização de partículas de moagem para o semicondutor de terceira geração, partículas de moagem de alta pureza para circuito integrado CMP e outros materiais-chave para exibição flexível de semicondutores fotoelétricos.
